China creó un prototipo de litografía extremo ultravioleta para fabricar chips modernos

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La litografía extrema ultravioleta (EUV) es la técnica más avanzada para imprimir los circuitos diminutos de los chips de última generación (especialmente para nodos por debajo de 7 nm). Usa luz con una longitud de onda extremadamente corta (~13.5 nm) para dibujar líneas ultrafinas en las obleas de silicio, lo que permite más transistores y mayor rendimiento en chips de IA y computación avanzada. Antes de ahora, solo la empresa neerlandesa ASML dominaba esta tecnología y estas máquinas no se exportan a China por restricciones regulatorias.

Fuente: Platzi