China creó un prototipo de litografía extremo ultravioleta para fabricar chips modernos
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La litografía extrema ultravioleta (EUV) es la técnica más avanzada para imprimir los circuitos diminutos de los chips de última generación (especialmente para nodos por debajo de 7 nm). Usa luz con una longitud de onda extremadamente corta (~13.5 nm) para dibujar líneas ultrafinas en las obleas de silicio, lo que permite más transistores y mayor rendimiento en chips de IA y computación avanzada. Antes de ahora, solo la empresa neerlandesa ASML dominaba esta tecnología y estas máquinas no se exportan a China por restricciones regulatorias.
Fuente: Platzi
1 comentario:
China sí ha desarrollado un prototipo de máquina de litografía EUV, un avance tecnológico notable en la carrera mundial de los semiconductores. No obstante, aún no puede afirmarse que el país haya alcanzado la capacidad de fabricar masivamente los chips más avanzados con esta tecnología. El prototipo genera luz EUV y está en pruebas, pero la producción comercial de chips de última generación sigue siendo un objetivo para los próximos años.
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